硅窗口片
硅适合用于1.2-8μm区域的近红外波段。因为硅材料具有密度小的特点(其密度是锗材料或硒化锌材料的一半),在一些对重量要求敏感的场合尤为适用,特别在3-5μm波段的应用。硅的努氏硬度为1150,比锗硬,没有锗易碎。然而,由于它在9um处有强的吸收带,因此并不适合用于二氧化碳激光器的透射应用。
材 料: Si
尺寸公差: 0.0/-0.1mm
厚度公差: ±0.2mm
通光孔径: ≥90%
表面质量: 40/20
面 型: λ/4@633nm
平 行 度: ≤3′
倒 角: 0.3×45°
镀 膜: E增透膜: Ravg<3% per surface@3-5μm
注:提供未镀膜产品,其它镀膜定制
编号 | 尺寸(mm) (直径D或H×L) |
厚度 T(mm) |
材料 |
WD91-001 | 10 | 1.5 | Si |
WD91-002 | 12.7 | 2 | Si |
WD91-003 | 25 | 1 | Si |
WD91-004 | 25 | 2 | Si |
WD91-005 | 25 | 3 | Si |
WD91-006 | 50 | 1 | Si |
WD91-007 | 50 | 2 | Si |
WD91-008 | 50 | 3 | Si |
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